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중성자 방사화분석법에 의한 반도체 특성조사-II - 반도체 제조공정 및 표면 적층분석 -
Characterization of Semiconductor Using Neutron Activation Analysis-II - Manufacturing Process and Surface Depth Profile Analysis -
분석과학 / Analytical Science and Technology, (P)1225-0163; (E)2288-8985
1998, v.11 no.6, pp.1065-1074
김낙배.
(1998). 중성자 방사화분석법에 의한 반도체 특성조사-II - 반도체 제조공정 및 표면 적층분석 -. 분석과학, 11(6), 1065-1074.
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