- P-ISSN 1225-0163
- E-ISSN 2288-8985
Glow Discharge를 이용한 고체 시료의 극미량 원소분석은 흡광, 방출, 형광 그리고 질량 분석 방법들이 특히 금속 시료들의 분석을 위해 많이 연구되어지고 있다. 본 연구에서는 자체 제작한 Gas-Jet-assisted Glow Discharge(GJGD)를 이용하여 각 실험변수에 따른 영향을 비교하여 보았다. 제작한 글로우 방전의 특성화 실험에 사용한 실험 변수로는 전류, 방전 가스의 흐름 속도, 압력 등이었고 시료는 황동을 사용하였다. 시료의 주원소인 구리(Cu)와 아연(Zn)의 방출선세기와 방전가스인 아르곤(Ar)의 상대적인 세기를 비교하여 보았는데, 대체적으로 전류의 증가는 튕겨나옴(Sputtering) 현상을 촉진시켜 방출선의 세기가 증가하였고 가스 흐름 속도는 플라즈마 속으로의 수송과 확산에 관여하여 증가될수록 방출선의 세기를 감소시켰다. 글로우 방전 내의 압력의 증가는 튕겨나옴 현상을 감소시킴과 더불어 시료 표면으로의 재부착을 증가시켜 방출선의 세기가 급격히 감소함을 보여 주었다.
Direct solid analysis of various kinds of metal samples has been conducted by glow discharge. In this laboratory, the gas-jet assisted glow discharge(GJGD) device has been developed and characterized. The effect of changes in applied current, cell pressure and flow rate on atomic emission signals obtained from a jet-assisted cathodic sputtering was investigate. The emission intensities of Cu, Zn, and Ar were measured. They were increased with the current. But the intensities were decreased by increasing the flow rate of argon due to the diffusion and transportation of particles into plasma. By increasing the pressure of the cell, the intensities were greatly decreased because of enhancement of redeposition onto the surface of the sample.